IT之家 5 月 30 日音讯，跟着 DRAM 微型化的不断鼓吹，SK 海力士、三星电子等公司正在勉力于于新材料的诱惑和利用。

据 TheElec，SK Hynix 计划在第 6 代（1c 工艺，约 10nm）DRAM 的分娩中使用 Inpria 下一代金属氧化物光刻胶（MOR），这是 MOR 初次利用于 DRAM 量产工艺。

音讯东谈主士称，SK Hynix 量产的 1c DRAM 上有五个极紫外 (EUV) 层，其中一层将使用 MOR 绘图。他还补充说，“不仅 SK 海力士，三星电子也将追求这类无机 PR 材料。”

IT之家查询公开贵寓获悉，Inpria 是日本化学公司 JSR 的子公司，亦然无机光刻胶限制的换取者；而 MOR 则被以为是现在用于先进芯片光刻的化学放大光刻胶（CAR）的下一代居品。

此外，该公司自 2022 年以来就一直与 SK Hynix 谐和进行 MOR 磋议。SK Hynix 此前曾暗意，使用 Sn（基）氧化物光刻胶将有助于提险阻一代 DRAM 的性能并缩小资本。

TheElec 报谈还指出，三星电子也在筹商将 MOR 利用于 1c DRAM，现在三星电子在 1c DRAM 上利用了 6 至 7 个 EUV 层，而好意思光则只利用了 1 层。

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《音讯称三星计划量产的 1c DRAM 使用 MOR 光刻胶》

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